隨著社會(huì)的不斷進(jìn)步，人工智能、大數(shù)據(jù)與工業(yè)的全方位系統(tǒng)集成，根據(jù)公司發(fā)展需要，
應(yīng)對(duì)未來(lái)市場(chǎng)，產(chǎn)品不斷升級(jí)，10月份新研發(fā)產(chǎn)品氧化鋁靶材成功突破，
本研發(fā)項(xiàng)目有過(guò)硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì)把控每道質(zhì)量工序，該產(chǎn)品投放市場(chǎng)后，通過(guò)客戶(hù)試用，每項(xiàng)指標(biāo)均已達(dá)到使用標(biāo)準(zhǔn)。

氧化鋁靶材具有以下特點(diǎn)：

1、高化學(xué)純度，能夠更好地滿(mǎn)足電子工業(yè)的要求；

 2、低雜質(zhì)含量，保證了膜層的純度和穩(wěn)定性；

      3、良好的膜形成能力和穩(wěn)定性，有利于薄膜和涂層的均勻性和穩(wěn)定性；

      4、優(yōu)異的化學(xué)性質(zhì)和熱穩(wěn)定性，能夠在高溫和惡劣的環(huán)境下穩(wěn)定工作。

氧化鋁靶材主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

      1、光學(xué)薄膜：用于制備高折射率的光學(xué)薄膜；

      2、電子薄膜：用于制備金屬鋁、鎢、鉬等金屬材料的電子薄膜；

      3、陶瓷工業(yè)：用于制備高溫陶瓷材料和瓷磚；

      4、化學(xué)儀器：用于制造高溫化學(xué)反應(yīng)器和高溫儲(chǔ)罐等化學(xué)儀器。

技術(shù)參數(shù)





 

*注：以上參數(shù)僅供參考，可根據(jù)客戶(hù)實(shí)際需求，適當(dāng)調(diào)整。